施設・設備

研究施設

図1 表面反応制御形量子界面形成加工評価システム
図2
自己組織化による化合物半導体量子構造を形成する有機金属気相成長装置。
図3
ナノメートルサイズでのレジストパターン形成が可能な電子ビーム描画装置。
図4
0.6ナノメートルの分解能で微細構造を観測できる走査型電子顕微鏡。
図5
mKの極低温を実現する希釈冷凍機。
図6
超高真空非接触容量－電圧測定装置：超高真空で測定電極を試料表面から100～300nmの位置まで近づけ、非接触状態で半導体自由表面および加工表面、あるいは極薄絶縁膜／半導体界面に対して容量－電圧測定を行うことを可能とした。
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